実験装置
光散乱
タービスキャンMA2000 FORMULACTION社
濃厚系粒径アナライザーFPAR-1000 大塚電子株式会社
粘弾性測定
レオメーターMCR 302 Anton Paar社
レオスコープHAAKE RheoScope 1 サーモフィッシャーサイエンティフィック株式会社
単分子膜
LB膜製造装置KSV 2000 KSV Instruments社
表面張力計DN 株式会社島津製作所
薄膜
X線反射率計SMARTLAB-NM 株式会社リガク∗
表面・界面物性
走査プローブ顕微鏡AFM5200S 株式会社日立ハイテク
大気中および液中（おもに水）における高分子材料の表面形状観察だけではなく, 吸着や摩擦, 粘弾性のような機械的物性イメージングにも使用しています. 加熱ステージを用いることで室温から250℃までの温度特性も評価しています.
システム蛍光顕微鏡BX72 オリンパス株式会社
落射蛍光照明を用いて高精細な蛍光イメージングによる高分子機能膜表面へのタンパク質吸着観察や接着界面への水浸透観察に使用しています. また, 透過ケーラー照明を用いてエマルションの形態観察にも使用しています. さらに, 顕微鏡用加熱ステージ（METTLER TOLEDO）と組み合わせ, 高分子材料の温度特性も評価しています.
荷重変動型摩擦摩耗試験システムHHS2000S 新東科学株式会社
磨耗回数・垂直荷重・摩擦力・磨耗体積の関係を示す3次元磨耗形態図から, 材料の摩擦・潤滑特性の評価に使用しています. 液体セルを用いることで湿潤状態における材料界面の力学物性評価も行っています.
接触角計DMs-401 協和界面科学株式会社
静的接触角および動的前進・後退接触角測定に基づき固体表面の性状評価に使用しています. さらに高速カメラを用いた高分子薄膜表面の動的接触角（最高1ミリ秒間隔）測定ならびにペンダントドロップ法による溶液の界面ダイナミクスを解析可能です. また, 三態系オプションにより液体中における高分子薄膜の構造変化観察も行っています.
試料作製
高速振とう機ASCM-1
超音波分散機UH-600S 株式会社エスエムテー
湿式微粒化装置NV-200 吉田機械工業株式会社
ウルトラディスパーサーULTRA-TURRAX T25 IKAジャパン株式会社
T.K.ロボミクスT.K. ROBO MICS 特殊機化工業株式会社
スピンコーター1H-D7 ミカサ株式会社
高速脱泡機HM-500 株式会社キーエンス
高速冷却遠心機6500 久保田商事株式会社
ソフトプラズマエッチング装置SEDE-P/NIS メイワフォーシス株式会社
基板および高分子膜の親水化処理・表面改質, カンチレバーや水晶振動子の有機物ソフトプラズマクリーニングによるコンタミ除去などに使用しています. 試料ステージの大きさはφ148mmで, 最大100mm×100mm（あるいはφ120mm）までの面積を均一に表面処理可能です.
分析機器
ゲル浸透クロマトグラフィーHLC-8220GPC 東ソー株式会社
紫外-可視分光光度計V-650DS 日本分光株式会社
透過電子顕微鏡JEM-1011 日本電子株式会社∗
ウルトラミクロトームLeica EM UC7 ライカマイクロシステムズ株式会社∗
学外利用施設
小角X線散乱装置SAXS
中性子反射率計SOFIA
